三氧化二鋁磁控濺射儀

O2流量為0.8sccm、1.0sccm、1.2sccm時(shí)直流和射頻制備的薄膜均呈透明狀且表面均勻致密，常溫下不同O2流量制備的Al2O3薄膜均為非晶態(tài)?！　≡趩我蛩卦囼炑芯康幕A上設計正交試驗，繼續深入研究直流、射頻方法下，濺射靶功率、O2流量、工作氣壓的綜合變化對Al2O3薄膜濺射沉積速率的影響，并對正交試驗結果進(jìn)行極差與方差分析。獲取了較優(yōu)的直流、射頻薄膜制備工藝參數并進(jìn)行薄膜的制備，對制備薄膜的沉積時(shí)間、薄膜表面粗糙度、薄膜的復合硬度進(jìn)行檢測并對比分析，選定了優(yōu)化后的直流濺射工藝參數并實(shí)施Al2O3薄膜的制備。通過(guò)對制備的薄膜進(jìn)行掃描電鏡觀(guān)測和能譜檢測，驗證了所選工藝參數的合理性。對常溫下不銹鋼基底上制備的Al2O3薄膜進(jìn)行退火處理，測試分析退火溫度對薄膜晶體結構影響，結果表明:與常溫制備薄膜相比，退火溫度800℃時(shí)出現γ-Al2O3晶體結構，奧氏體相消失，退火溫度1000℃時(shí)出現α-Al2O3晶體結構和金屬間化合物AlFe?！　±帽∧鞲衅鞯慕Y構要求與傳感器薄膜的性能要求探索了制備Al2O3絕緣膜的工藝方法，得出了濺射靶功率、O2流量、工作氣壓、負偏壓和本底真空度等因素對直流和射頻濺射沉積薄膜性能等的影響規律，改進(jìn)并優(yōu)化了Al2O3薄膜制備工藝，結合退火工藝得出了退火溫度對Al2O3薄膜晶體結構的影響規律。

            三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD

應用領(lǐng)域：

離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛，通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象，并提高觀(guān)測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

  三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD廠(chǎng)家供應技術(shù)參數；