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產(chǎn)品中心材料樣品處理小型濺射儀KT-Z1650PVD小型離子濺射儀鍍膜儀
產(chǎn)品簡(jiǎn)介
小型離子濺射儀鍍膜儀一種有著(zhù)緊湊結構的桌上型鍍膜系統，對于掃描電鏡成像中非導電樣品高質(zhì)量鍍膜尤為適用。試樣干燥清潔為離子濺射鍍膜的基本要求。在必要時(shí)，交換試樣與陰極的位置利用火花放電從而對試樣表面進(jìn)行清潔，之后試樣復原，再進(jìn)行濺射鍍膜。鐵、鎳、銅鉛等為離子濺射儀常用的陰極材料，有時(shí)電剛金、鉑、鈀、銦和其他金屬也能夠作為陰極材料，氧氣為離子濺射儀常用的反應氣體。
| 品牌 | 鄭科探 | 濺射氣體 | 根據需求氣體 |
|---|---|---|---|
| 樣品臺尺寸 | φ50mm | 控制方式 | 觸摸屏智能控制 |
| 樣品倉尺寸 | φ160x160mm | 靶材尺寸 | 50mm |
| 靶材材質(zhì) | 金 鉑 銅 銀 | 價(jià)格區間 | 1-5萬(wàn) |
| 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) | 應用領(lǐng)域 | 化工,電子 |
小型離子濺射儀鍍膜儀
離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛，通過(guò)向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象，并提高觀(guān)測效率，另外可以使用噴碳附件對樣品進(jìn)行蒸碳，實(shí)現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。
在磁控濺射中，由于運動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力，它們的運動(dòng)軌跡會(huì )發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)
生螺旋運動(dòng)，其運動(dòng)路徑變長(cháng)，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作。同時(shí)，經(jīng)過(guò)多次碰撞而喪失能量的電子到達陽(yáng)極時(shí)，已變成低能電子，從而不會(huì )使基片過(guò)熱。
銀靶材離子濺射儀KT-Z1650PVD鍍膜客戶(hù)反饋圖：
小型離子濺射儀鍍膜儀KT-Z1650PVD廠(chǎng)家供應技術(shù)參數；
控制方式 | 7寸人機界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類(lèi)型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
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