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產(chǎn)品中心材料樣品處理小型蒸鍍儀KT-Z1650CVD高溫真空蒸鍍儀
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高溫真空蒸鍍儀，觸摸屏控制功率時(shí)間，工藝時(shí)間記憶儲存功能，石英腔體，自動(dòng)電動(dòng)擋板保護樣品，旋轉樣品臺，蒸發(fā)高度調節。
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相關(guān)文章| 品牌 | 鄭科探 | 產(chǎn)地類(lèi)別 | 國產(chǎn) |
|---|---|---|---|
| 應用領(lǐng)域 | 綜合 |
高溫真空蒸鍍儀，是一款小型真空鍍膜儀，特別適合蒸鍍一些輕金屬，如 Al. Mg, 和Li等。同時(shí)也可對樣品進(jìn)行鍍碳處理，Z大可處理的樣品直徑為50mm.。標準的旋轉樣品臺可進(jìn)行傾斜調節，非常容易適應各種樣品座?？蛇x的樣品臺具有特殊的凹槽，可放置標準的載玻片，這在“石棉分析"需要鍍碳層時(shí)尤為有利。
碳棒頭在儀器中作為標準件。這是一個(gè)“快速釋放頭"，使用戶(hù)在選擇金屬蒸發(fā)附件、碳絲及光闌清洗頭時(shí)可方便地更換。放氣系統具有互鎖裝置，避免樣品受到干擾。渦輪分子泵可安裝在任何軸上，并且可安全地“關(guān)閉"直接通大氣。
優(yōu)點(diǎn)
● 容易操作
● 均勻的樣品涂層
● 方便多用戶(hù)操作
● 可用于蒸碳及蒸鍍金屬
● 在排氣過(guò)程中可防止樣品損壞
● 碳棒或碳絲蒸發(fā)
以下是不同真空度 不同鍍膜時(shí)間鍍銅樣品圖
原樣品沒(méi)有鍍膜 
115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 
115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
高溫真空蒸鍍儀KT-Z1650CVD
控制方式 | 7寸人機界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制 |
加熱方式 | 數字式功率調整器 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
最大功率 | ≤1200W |
最大輸出電壓電流 | 電壓≤12V 電流≤120A |
真空度 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤10^-3Pa |
擋板類(lèi)型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （最大可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品蒸發(fā)源調節距離 | 70-140mm |
蒸發(fā)溫度調節 | ≤1800℃ |
支持蒸發(fā)坩堝類(lèi)型 | 鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩 |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口 |
可選配擴展 | 機械真空泵（可抽真空 5分鐘＜5Pa） 數顯真空計（測量范圍大氣壓到0.1Pa） 分子泵機組（可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa） |
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