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等離子清洗機的優(yōu)勢滿(mǎn)滿(mǎn)

更新時(shí)間:2020-07-06點(diǎn)擊次數:1347
  等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下可以以第四種狀態(tài)存在,如太陽(yáng)表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類(lèi)物質(zhì)所處的狀態(tài)稱(chēng)為等離子體狀態(tài),又稱(chēng)為物質(zhì)的第四態(tài)。由于等離子體中的電子、離子和自由基等活性粒子的存在,其本身很容易與固體表面發(fā)生反應。等離子體清洗主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。
  與濕法清洗相比,等離子清洗機的優(yōu)勢表面在以下幾個(gè)方面:
  1、在經(jīng)過(guò)等離子清洗之后,被清洗物體已經(jīng)很干燥,不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。
  2、不使用有害溶劑,清洗后也不會(huì )產(chǎn)生有害污染物,屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。
  3、整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘即可完成,因此具有效率高的特點(diǎn)。
  4、它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內部并完成清洗任務(wù),所不多考慮被清洗物體形狀的影響。
  5、在完成清洗去污的同時(shí),還能改變材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能,改善膜的附著(zhù)力等。
  6、等離子清洗的技術(shù)特點(diǎn)是,它不分處理對象,可處理不同的基材。無(wú)論是金屬、半 導體、氧化物還是高分子材料都可用等離子體很好地處理。因此,特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進(jìn)行部分清洗。
  7、自動(dòng)化程度高,具有高精度的控制裝置,時(shí)間控制的精度很高;正確的等離子體清洗不會(huì )在表面產(chǎn)生損傷層,表面質(zhì)量得到保證;由于是在真空中進(jìn)行,不污染環(huán)境,保證清洗表面不被二次污染。
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