高純度金顆粒蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗室用戶(hù)群體設計開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板，達到及時(shí)遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡(jiǎn)單，更有工藝儲存等功能。采用電子束蒸鍍金膜時(shí),會(huì )有微小的黑色顆粒出現在金膜的表面,這些黑色的顆粒形狀大多不規則,尺寸集中在100 nm～-1μm之間。

粉末坩堝蒸鍍儀KT-Z1650CVD是我公司專(zhuān)為科研院所及實(shí)驗室用戶(hù)群體設計開(kāi)發(fā)的一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)、金屬粉末等。配有樣品擋板，可手動(dòng)或自動(dòng)開(kāi)/關(guān)擋板，達到及時(shí)遮擋樣品效果；觸摸屏控制，操作簡(jiǎn)單，更有工藝儲存等功能。

真空鍍銅蒸鍍儀KT-Z1650CVD是一款小型高真空蒸發(fā)鍍膜系統。蒸發(fā)源可兼容金屬、有機物蒸發(fā)。廣泛應用于高校、科研院所制備功能薄膜、蒸鍍電極、掃描電鏡制樣等。鍍銅可打底用，增進(jìn)電鍍層附著(zhù)能力，及抗蝕能力。

等離子清洗機鄭科 探KT-S2DQX通常被用在 一：等離子表面活化/清洗；二：等離子處理后粘合;三： 等離子蝕刻/活化 四： 等離子去膠;五：等離子涂鍍(親水,疏水); 六： 增強綁定性；七：等離子涂覆；八：等離子灰化和表面改性等場(chǎng)合。 通過(guò)其處理，能夠改善材料表面的浸潤能力，使多種材料能夠進(jìn)行涂覆、鍍等操作，增強粘合力、鍵合力，同時(shí)去除有機污染物、油污或油脂。

三氧化二鋁磁控濺射儀KT-Z1650PVD為臺式磁控濺射鍍膜機在較短時(shí)間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜。儀器結構緊湊，全自動(dòng)控制。利用直流磁控濺射和射頻磁控濺射技術(shù)，進(jìn)行某傳感器基底Al2O3薄膜絕緣層的制備工藝及性能研究，對于指導薄膜傳感器工藝設計及應用的快速發(fā)展，具有十分重要的理論意義及較好的工程應用價(jià)值。