上海實(shí)驗室真空PECVD射頻模塊薄膜均勻沉積通過(guò)反應氣態(tài)放電，有效地利用了非平衡等離子體的反應特征，從根本上改變了反應體系的能量供給方式低溫熱等離子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn)，工藝流程簡(jiǎn)單，與傳統CVD系統比較，生長(cháng)溫度更低，管輝光均勻等效，薄膜均勻沉積。

實(shí)驗室非標定制真空光催化反應裝置廣泛應用化學(xué)合成、環(huán)境保護以及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域。 KT-ZG50QC 型多功能光化學(xué)反應儀適合應用于化學(xué)合成、環(huán)境保護及生命科學(xué)等研究領(lǐng)域，該系統具有技術(shù)合理、結構簡(jiǎn)單、操作便捷、運行穩定、保護人體、自由組合、靈活定做等*優(yōu)勢！ 每根燈管單獨單元控制，可調節紫外光功率。

不銹鋼定制真空腔體 實(shí)驗室非標定制真空測試腔主要用于氣體敏感材料或其他對環(huán)境敏感性材料中的電信號測試。測試腔體內部裝有不銹鋼加熱承載臺，臺面為50x50mm，臺面可升溫到350℃。

實(shí)驗室非標真空腔體、分子泵高真空機組系統是熱傳導加熱模式 腔體內的加熱平臺上的溫度由于不同真空和氣氛環(huán)境導致測溫誤差也不同 常壓下為-10℃左右的負偏差 客戶(hù)可用PT100熱電阻貼在和樣品接近的樣品臺面上測準確值做校準。

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